机译:通过等离子体蚀刻含硅聚合物引起的表面粗糙度
机译:控制等离子体引起的表面粗糙度:与等离子体蚀刻沉积同时进行
机译:在聚合物基板的等离子蚀刻过程中,表面电荷与微尺度粗糙度之间的相互作用
机译:在Fowler-nordheim的逐步湿法蚀刻期间氧化物表面粗糙度在彼得·诺德海姆的逐步湿法蚀刻型二氧化硅薄膜期间循环湿法施用氮二氧化硅膜表面粗糙度
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:聚合物基底基于等离子体的表面工程中的粗糙度演变和带电:离子反射和二次电子发射的影响
机译:通过气体等离子蚀刻对聚合物表面进行结构和化学改性